반도체 사업장 안전관리가 어려운 이유는, 공정 하나하나가 서로 다른 화학물질과 설비를 쓰는 사실상 별개의 작업이기 때문입니다. 고용노동부와 안전보건공단이 발간한 「반도체 사업장 현장실습생을 위한 건강관리 길잡이」를 바탕으로, 웨이퍼 가공부터 칩 조립까지 전체 공정의 유해요인과 건강관리 핵심을 정리했습니다.

1. 반도체 제조공정 개요

반도체 제조는 크게 웨이퍼 가공(FAB)칩 조립 두 단계로 나뉩니다.

웨이퍼 가공라인은 클린룸(clean room)에서 이루어집니다. 고성능 필터(ULPA)가 0.1㎛ 크기 먼지를 99.9999% 걸러내고, 내부를 양압으로 유지해 외부 먼지 유입을 차단하는 구조입니다. 근로자는 전실에서 방진복의 오염물질을 제거한 뒤 입실합니다.

2. 웨이퍼 가공(FAB) 공정별 유해요인

① 확산공정(diffusion)

고온의 전기로에서 웨이퍼 표면에 불순물을 주입해 막을 형성하는 공정입니다. 암모니아·아르신(삼수소화비소)·포스핀·불소·수소 등을 사용하며, PM(정비)작업 시 챔버 내 잔류가스·부산물에 노출될 수 있어 충분히 배기한 후 국소배기장치가 가동되는 상태에서 작업해야 합니다.

② 포토공정(photolithography)

포토레지스트(PR)를 도포하고 자외선을 쬐어 회로 패턴을 만드는 공정입니다. PR에 포함된 유기용제(2-헵타논, IPA, PGME 등)가 가공공정 냄새의 주요 원인이며, 노광 시 수지 분해로 미량의 부산물이 발생할 수 있습니다. 국소배기장치가 정상 가동되는 상태에서 작업해야 합니다.

③ 식각공정(etch)

불필요한 부분을 제거하는 공정으로, 습식식각(불산·염산·황산 등 산·알칼리 사용)과 건식식각(반응성 기체·이온 이용)으로 나뉩니다. 두 방식 모두 개인보호구 착용이 필수이며, 건식식각은 반응챔버를 열 때 잔류가스 노출에 유의해야 합니다.

④ 증착공정(deposition)

웨이퍼에 전도성·절연성 박막을 입히는 공정(CVD·PVD)입니다. PM작업 시 반응가스·부산물 노출, 배관 점검 시 가스누출로 인한 급성중독 위험이 있어 개인보호구 착용이 필요합니다.

⑤ 이온주입공정(ion implantation)

반도체에 전도성을 부여하기 위해 불순물을 주입하는 공정입니다. 전리방사선이 발생하므로 방사선 작업 근로자 외에는 접근·조작을 금지하고, 인터록을 임의로 해제해서는 안 됩니다.

⑥ 연마공정(CMP)

웨이퍼 표면을 화학적·기계적으로 연마해 평탄화하는 공정입니다. 인터록을 해제하고 작업하면 연마액이 비산되어 산·알칼리에 노출될 수 있으므로, 인터록이 정상 작동되는 상태에서만 작업해야 합니다.

⑦ 세정공정(cleaning)

공정 전후 웨이퍼 표면 오염물질을 제거하는 공정으로, 습식세정 시 불산·황산·암모니아수 등 산·알칼리 노출에 유의해야 합니다.

3. 칩 조립(패키징) 공정별 유해요인

칩 조립 공정 전반에서 반복되는 원칙은 하나입니다. 인터록·국소배기장치를 임의로 해제하지 않는 것, 그리고 PM작업 전 잔류물질을 충분히 배기하는 것입니다. 대부분의 노출 사고는 이 두 원칙 중 하나가 지켜지지 않았을 때 발생합니다.

4. 건강영향별로 알아두어야 할 것

5. MSDS·경고표지 활용법

물질안전보건자료(MSDS)는 상황별로 필요한 항목이 다릅니다.

화학물질 경고표지의 그림문자(불꽃, 해골과 X형, 부식성 등)만 보아도 위험 종류를 즉시 알 수 있으므로, 작업 전 용기·설비의 경고표지를 반드시 확인하는 습관이 필요합니다.

6. SFK 현장 점검 체크리스트

자료: 고용노동부·한국산업안전보건공단, 「반도체 사업장 현장실습생을 위한 건강관리 길잡이」를 바탕으로 재구성